Hafniyum alkoksit (örn. hafniyum izopropoksit) veya hafniyum klorür çözeltileri kullanılır.
Çözücü olarak etanol, izopropanol veya su bazlı karışımlar tercih edilir.
pH 3-5 arasında hafif asidik ortam sağlanır.
Mikron boyutlu HfO² tozları ultrasonik dispersiyon ile homojen süspanse edilir.
Prekürsör çözeltileri manyetik karıştırıcı veya ultrasonik cihaz ile iyice karıştırılır.
Solun viskozitesi ve partikül dağılımı kaplama kalitesini doğrudan etkiler.
Dip-coating, spin-coating veya spray-coating teknikleriyle kaplama yapılır.
Substratlar cam, metal, seramik veya polimer olabilir.
Kaplama kalınlığı ve homojenliği solun özellikleri ve uygulama hızına göre ayarlanır.
Oda sıcaklığında ön kurutma (15-30 dakika)
80-120°C’de jelleşme ve solvent buharlaştırma işlemi uygulanır.
Kaplama 500-700°C arasında inert veya kontrollü hava atmosferinde sinterlenir.
Bu işlemle HfO² kristal yapısı stabilize edilir ve kaplama dayanıklılığı artırılır.
Saflık: ≥ %99.9
Partikül Boyutu: 1-10 mikron
Yüksek dielektrik sabiti
Termal ve kimyasal kararlılık
Homojen partikül dağılımı
Mikroelektronik kaplamalar
Yüksek performanslı transistörler
Optik kaplamalar
Isı koruyucu yüzeyler
Dielektrik filmler
