Antimon (III) Oksit (Sb²O³), mükemmel optik geçirgenlik, iyi elektriksel iletkenlik ve alev geciktirici özellikleri ile bilinen, endüstride sıkça kullanılan bir yarı metal oksittir. Sol-Jel yöntemi ile mikron toz formunda Sb²O³ kullanılarak yüzeylere homojen, kontrollü kalınlıkta ve işlevsel kaplamalar yapılabilir.
Antimon (III) Oksit (Sb²O³) mikron tozu (1–5 µm arası)
Çözücü: Etanol, izopropanol veya distile su
Şelat ajanı: Asetik asit veya sitrik asit
Sol öncül: Antimon tri-etilat (Sb(OC²H5)³) – tercihen
İsteğe bağlı katkılar: Silika, titanya, çinko oksit gibi destekleyiciler
Sb²O³ mikron tozu, çözücü içerisinde manyetik karıştırıcı veya ultrasonik banyo yardımıyla dağılır (30–60 dakika).
Şelat ajanı eklenerek, parçacıkların agregasyon (birleşme) yapması engellenir.
Gerekirse antimon öncül çözeltisi (örneğin Sb(OC²H5)³) eklenerek film yapıcı özellik artırılır.
Karışım, kontrollü olarak karıştırılır ve homojen bir sol elde edilir.
Bu sol, 12–24 saat yaşlandırılarak jelleşme için hazır hale getirilir.
Dip Coating: Yüzeyden kontrollü çekilerek kalınlık ayarlanabilir.
Spin Coating: Özellikle ince film ve optik şeffaflık isteyen uygulamalar için.
Spray Coating: Endüstriyel ölçekli kaplamalarda kullanılabilir.
Ön kurutma: 80–100?°C’de çözücülerin uçurulması
Kürleme: 300–500?°C arasında, tercihen inert atmosferde sinterleme
Sıcaklık, film bütünlüğü ve kristallik açısından optimize edilmelidir.
Saydam iletken film (transparent conducting oxide – TCO)
Termal stabilite
Alev geciktirici yüzeyler
Kimyasal direnç
Optik geçirgenlik
Yüzeye güçlü yapışma
Mikro yapıda düzgün dağılım
Saydam elektrotlar (örneğin TFT'ler, LCD'ler)
Alev geciktirici kaplamalar
Antibakteriyel yüzeyler
Güneş hücreleri ve sensörler
Optik cam ve seramik yüzey modifikasyonu
