Nanokar Lanthanum Manganate (LaMnO³) Sputtering Targets – 4" x 0.125"

Teknik Özellikler

• Kimyasal Formül: LaMnO³
• Saflık: %99.9
• Boyut: 4’’
• Kalınlık: 0.125’’
• Kristal Yapı: Perovskit
• Elektriksel Özellik: Manyeto-rezistif & yüksek iletkenlik
• Üretim Yöntemi: Sinterlenmiş Seramik

Nanokar LaMnO³ Sputtering Targets – Yüksek Performanslı İnce Film Kaplama Çözümü

Nanokar Lanthanum Manganate (LaMnO³) Sputtering Targets, manyetik, elektronik ve enerji uygulamaları için yüksek saflıkta ve stabil ince film kaplama malzemesidir.

Perovskit yapısı sayesinde manyetik özellikler, yüksek oksijen değişim kapasitesi ve termal stabilite sunarak, manyetik sensörler, yakıt hücreleri, spintronik uygulamalar ve batarya elektrotları gibi alanlarda kullanılmaktadır.

Öne Çıkan Özellikler

%99.9 Yüksek Saflık – Endüstriyel & akademik araştırmalar için idealdir.
Manyeto-Rezistif Özellikler – Manyetik alan değişimiyle direnç değiştirebilir.
Yüksek İletkenlik & Oksijen Değişim Kapasitesi – Sensör ve batarya teknolojileri için uygundur.
Yüksek Termal ve Kimyasal Stabilite – Zorlu çevresel koşullarda dayanıklıdır.
Çeşitli Kaplama Tekniklerine Uyumlu – PVD, PLD, CVD gibi tekniklerle uyumludur.

Kullanım Alanları

1. Elektronik & Sensör Teknolojileri

• Manyetik sensör kaplamaları (GMR & TMR uygulamaları)
• Spintronik uygulamalar
• Oksijen dedektörleri & gaz sensörleri
• Manyetik Dirençli Bellek (MRAM) kaplamaları

2. Enerji & Yakıt Hücresi Teknolojileri

• Solid oksit yakıt hücreleri (SOFC) elektrotları
• Lityum iyon batarya elektrotları & elektrokimyasal hücreler
• Güneş pili kaplamaları & hidrojen üretim teknolojileri

3. Manyetik & Optoelektronik Uygulamalar

• Manyetik kaplamalar & ferromanyetik ince filmler
• İleri düzey spintronik malzemeler
• Düşük sıcaklıkta süperiletkenler için elektrot kaplamaları

LaMnO³ İnce Film Üretim Teknikleri

Nanokar LaMnO³ Sputtering Targets, aşağıdaki kimyasal ve fiziksel kaplama teknikleriyle uyumludur:

 Kimyasal Yöntemler:

• Kimyasal Buhar Biriktirme (CVD)
• Metallo-Organik Kimyasal Buhar Biriktirme (MOCVD)
• Kimyasal Çözelti Depozisyonu (CSD)

 Fiziksel Yöntemler:

• Sputtering (Fiziksel Buhar Biriktirme – PVD)
• Atımlı Lazer Biriktirme (PLD – Pulsed Laser Deposition)
• Mist Plazma Buharlaşma Yöntemi

Nanokar Güvencesi ile Yüksek Kalite!

Nanokar, yüksek saflıkta ve ileri teknolojiye uygun LaMnO³ Sputtering Targets üretmektedir.
Elektronik, optoelektronik, enerji ve manyetik sistemleriniz için Nanokar güvencesiyle en iyi çözümleri sunuyoruz!

Büyük siparişler ve özel üretim talepleriniz için bizimle iletişime geçin!