Nanokar Lanthanum Calcium Manganate (La°.7Ca°.³MnO³) Sputtering Targets – 8" x 0.250"

Teknik Özellikler

• Kimyasal Formül: La°.7Ca°.³MnO³
• Saflık: %99.9
• Boyut: 8’’
• Kalınlık: 0.250’’
• Kristal Yapı: Perovskit
• Elektriksel Özellik: Manyeto-rezistif & yüksek iletkenlik
• Üretim Yöntemi: Sinterlenmiş Seramik

Nanokar La°.7Ca°.³MnO³ Sputtering Targets – Manyetik & Elektronik Film Kaplama Çözümü

Nanokar Lanthanum Calcium Manganate (La°.7Ca°.³MnO³) Sputtering Targets, manyetik, elektronik ve enerji uygulamaları için yüksek saflıkta ve stabil ince film kaplama malzemesidir.

Perovskit yapısı sayesinde manyetik özellikler, yüksek oksijen değişim kapasitesi ve termal stabilite sunarak, manyetik sensörler, spintronik cihazlar, batarya elektrotları ve yakıt hücreleri gibi alanlarda kullanılmaktadır.

Öne Çıkan Özellikler

%99.9 Yüksek Saflık – Araştırma & endüstriyel uygulamalar için idealdir.
Manyeto-Rezistif Özellikler – Manyetik alan değişimiyle direnç değiştirir.
Yüksek Oksijen Değişim Kapasitesi – Enerji uygulamaları için uygundur.
Çeşitli Kaplama Tekniklerine Uyumlu – PVD, PLD, CVD gibi yöntemlerle uyumludur.
Düşük Sıcaklıkta Metal-Yalıtkan Geçişi (MIT) – Manyetik alan altında direnç değiştirerek sensörlerde kullanıma uygundur.

Kullanım Alanları

1. Elektronik & Sensör Teknolojileri

• Manyetik sensör kaplamaları (GMR & TMR uygulamaları)
• Spintronik uygulamalar
• Hassas manyetik direnç ölçümleri (CMR – Colossal Magnetoresistance)
• MRAM (Manyetik Bellek) kaplamaları

2. Enerji & Batarya Teknolojileri

• Solid oksit yakıt hücreleri (SOFC) elektrotları
• Lityum iyon batarya elektrotları
• Güneş pili kaplamaları & hidrojen üretimi

3. Manyetik & Optoelektronik Uygulamalar

• Manyetik kaplamalar & ferromanyetik ince filmler
• İleri düzey spintronik malzemeler
• Düşük sıcaklıkta süperiletkenler için elektrot kaplamaları

La°.7Ca°.³MnO³ İnce Film Üretim Teknikleri

Nanokar La°.7Ca°.³MnO³ Sputtering Targets, aşağıdaki kimyasal ve fiziksel kaplama teknikleriyle uyumludur:

 Kimyasal Yöntemler:

• Kimyasal Buhar Biriktirme (CVD)
• Metallo-Organik Kimyasal Buhar Biriktirme (MOCVD)
• Kimyasal Çözelti Depozisyonu (CSD)

Fiziksel Yöntemler:

• Sputtering (Fiziksel Buhar Biriktirme – PVD)
• Atımlı Lazer Biriktirme (PLD – Pulsed Laser Deposition)
• Mist Plazma Buharlaşma Yöntemi

Nanokar Güvencesi ile Yüksek Kalite!

Nanokar, yüksek saflıkta ve ileri teknolojiye uygun La°.7Ca°.³MnO³ Sputtering Targets üretmektedir.
Elektronik, optoelektronik, enerji ve manyetik sistemleriniz için Nanokar güvencesiyle en iyi çözümleri sunuyoruz!

Büyük siparişler ve özel üretim talepleriniz için bizimle iletişime geçin!