Nanokar Lanthanum Calcium Manganate (La°.7Ca°.³MnO³) Sputtering Targets – 1" x 0.250"

Teknik Özellikler

• Kimyasal Formül: La°.7Ca°.³MnO³
• Saflık: %99.9
• Boyut: 1’’
• Kalınlık: 0.250’’
• Kristal Yapı: Perovskit
• Elektriksel Özellik: Manyeto-rezistif (CMR) ve yüksek iletkenlik
• Üretim Yöntemi: Sinterlenmiş Seramik

Nanokar La°.7Ca°.³MnO³ Sputtering Targets – Yüksek Performanslı Kaplama Malzemesi

Nanokar Lanthanum Calcium Manganate (La°.7Ca°.³MnO³) Sputtering Targets, elektronik, manyetik ve enerji teknolojileri için stabil, dayanıklı ve yüksek saflıkta bir ince film kaplama malzemesidir.

Bu manyeto-rezistif (CMR) perovskit oksit, manyetik sensörler, spintronik cihazlar ve enerji uygulamalarında yüksek performanslı ve kontrollü film büyümesi sağlar.

Öne Çıkan Özellikler

%99.9 Yüksek Saflık – Araştırma ve endüstriyel kullanımlar için idealdir.
Manyeto-Rezistif (CMR) Özellikler – Direnç değişimini manyetik alan ile kontrol eder.
Yüksek Oksijen Değişim Kapasitesi – Enerji uygulamaları için optimize edilmiştir.
Geniş Kaplama Teknikleri Desteği – PVD, PLD, CVD gibi yöntemlerle kullanılabilir.
Düşük Sıcaklıkta Metal-Yalıtkan Geçişi (MIT) – Sensörler ve elektronik uygulamalar için idealdir.

Kullanım Alanları

1. Elektronik ve Sensör Uygulamaları

• Manyetik sensör kaplamaları (GMR & TMR uygulamaları)
• Spintronik tabanlı cihazlar
• CMR (Colossal Magnetoresistance) Sensörleri
• MRAM (Manyetik Bellek) kaplamaları

2. Enerji ve Batarya Teknolojileri

• Solid oksit yakıt hücreleri (SOFC) elektrotları
• Lityum iyon batarya elektrotları
• Güneş pili kaplamaları ve hidrojen üretimi

3. Manyetik ve Optoelektronik Uygulamalar

• Manyetik kaplamalar ve ferromanyetik ince filmler
• Spintronik tabanlı cihazlar
• Düşük sıcaklık süperiletken kaplamaları

La°.7Ca°.³MnO³ Kaplama Teknikleri

Nanokar La°.7Ca°.³MnO³ Sputtering Targets, çeşitli kimyasal ve fiziksel kaplama teknikleriyle uyumludur:

 Kimyasal Yöntemler:

• Kimyasal Buhar Biriktirme (CVD)
• Metallo-Organik Kimyasal Buhar Biriktirme (MOCVD)
• Kimyasal Çözelti Depozisyonu (CSD)

 Fiziksel Yöntemler:

• Sputtering (Fiziksel Buhar Biriktirme – PVD)
• Atımlı Lazer Biriktirme (PLD – Pulsed Laser Deposition)
• Mist Plazma Buharlaşma Yöntemi

Nanokar Güvencesiyle Yüksek Kalite

Nanokar, yüksek saflıkta ve ileri teknolojiye uygun La°.7Ca°.³MnO³ Sputtering Targets üretmektedir.
Elektronik, optoelektronik, enerji ve manyetik sistemleriniz için Nanokar güvencesiyle en iyi çözümleri sunuyoruz!

Büyük siparişler ve özel üretim talepleriniz için bizimle iletişime geçin!