Yüksek Saflıkta Hafniyum Oksit (HfO2) Pelet - 1-3mm

%99,99 (4N) Saflık | Yüksek Kırılma İndisi & Dielektrik Performans | E-Beam Buharlaştırma İçin Uygun

İleri teknoloji uygulamaları için kritik bir malzeme olan Hafniyum Oksit (HfO2) Peletlerimiz, %99,99 saflık derecesiyle elektronik, optik ve nükleer endüstri standartlarını karşılamak üzere üretilmiştir. 1-3 mm boyut aralığındaki bu beyaz granüller, özellikle ince film kaplama süreçlerinde (buharlaştırma) homojen bir yapı ve üstün performans sağlar.

Teknik Özellikler

Ürün Hakkında ve Avantajları

Hafniyum Oksit, bilinen en kararlı oksitlerden biridir. Yüksek erime noktası ve kimyasal kararlılığı, onu zorlu ortamlar için mükemmel bir aday yapar. 1-3 mm boyutundaki granül yapısı, Vakum Altında Buharlaştırma (E-Beam Evaporation) sistemlerinde pota dolum kolaylığı ve kontrollü erime avantajı sunar.

• Yüksek-k Dielektrik Özelliği: SiO2'ye kıyasla daha yüksek dielektrik sabiti sayesinde, yeni nesil transistörlerde ve nano-elektronik devrelerde kaçak akımları önler.

• Üstün Optik Performans: UV'den IR spektrumuna kadar geniş bir aralıkta şeffaftır ve yüksek kırılma indisine sahiptir. Bu özellik, çok katmanlı optik kaplamalarda tercih edilmesini sağlar.

• Termal ve Mekanik Dayanım: Seramik uygulamalarında yapıyı güçlendirir ve yüksek sıcaklık şoklarına karşı direnç sağlar.

Uygulama Alanları

Bu yüksek saflıktaki HfO2 peletler, aşağıdaki endüstriyel ve araştırma alanlarında güvenle kullanılabilir:

1. Optik Kaplamalar: Lazer aynaları, AR (yansıma önleyici) kaplamalar ve girişim filtreleri üretiminde yüksek indisi katmanı olarak.

2. Yarı İletken ve Elektronik: MOSFET ve DRAM üretiminde "High-k" kapı dielektriği (gate dielectric) malzemesi olarak.

3. Nükleer Teknoloji: Hafniyumun yüksek nötron soğurma kesiti sayesinde, nükleer reaktör kontrol çubuklarında ve koruyucu bileşenlerde.

4. İleri Seramikler: Yüksek sıcaklık termokupl kılıfları ve refrakter seramiklerin üretiminde katkı maddesi olarak.